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MoS₄-LDH插層體對重金屬離子的高選擇性吸附和有效去除

MoS₄^2-離子插層NO₃-LDH形成的插層復合體MoS₄-LDH，可有效去除Cu²⁺、Pb²⁺、Ag⁺、Hg²⁺等重金屬離子，對金屬離子選擇性順序為Co²⁺,Ni²⁺, Zn²⁺ < Cd²⁺ ？ Pb²⁺ < Cu²⁺ < Hg²⁺ < Ag⁺，對Hg²⁺、Ag⁺的最大吸附量分別為500 mg/g和450 mg/g，分配常數(shù)K_d高達10⁷ mL/g。該材料能夠快速將溶液中Cu²⁺, Pb²⁺, Hg²⁺, Ag⁺的濃度從ppm級降低至≤1 ppb級。對高毒性Hg²⁺，MoS₄-LDH能快速去除，5分鐘去除率97.3%，30分鐘達99.7%，1小時去除率可達100%。動力學過程研究表明符合擬二級速率方程，吸附機理為M-S間鍵合的化學吸附。吸附后樣品研究發(fā)現(xiàn)不同配位和插層結(jié)構(gòu)，豐富了LDH插層化學和硫?qū)倩衔锝j(luò)合化學。此MoS₄-LDH有望成為治理重金屬污染水體的理想材料。
 

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